Porėtųjų SiO2 sluoksnių ant Si nul-elipsometrija

Suzanovičienė, Rasa; Tamaševičius, Remigijus

Use this url to cite publication: https://hdl.handle.net/20.500.14911/149219

Porėtųjų SiO2 sluoksnių ant Si nul-elipsometrija

Details

Publication Type (CRIS)

Straipsnis nerecenzuojamoje Lietuvos konferencijos medžiagoje / Article in non-peer-reviewed Lithuanian conference proceedings (P2c)

Publication Type (eLABa)

Straipsnis nerecenzuotame konferencijos darbų leidinyje / Article in an un-reviewed conference proceedings (P2)

Author(s)

Author	Affiliation
Suzanovičienė, Rasa	Puslaidininkių fizikos institutas	Vilniaus universitetas
Tamaševičius, Remigijus	Puslaidininkių fizikos institutas	Fundamentinių mokslų fakultetas / Faculty of Fundamental Sciences (10)

Title

Porėtųjų SiO2 sluoksnių ant Si nul-elipsometrija

[lt]

R. Šustavičiūtė, R. Tamaševičius

Published In

Year	Start Page	End Page
2004	163	167

Extent

P. 163-167

URI

URI
https://hdl.handle.net/20.500.14911/149219

Science / Art Area

Gamtos mokslai / Natural Sciences (N)

Field of Science / Art

Fizika / Physics (N002)

Keywords (lt)

Keywords (en)

Abstract (lt)

Darbe buvo tiriami SiO2 porėtieji sluoksniai ant Si padėklų, naudojant nul- elipsometrinę tyrimo metodiką. SiO2 patogu naudoti sluoksnius, kadangi tai yra termiškai stabili, mechaniškai tvirta medžiaga, gerai žinomos SiO2 optinės charakteristikos bei porėtuosius sluoksnius galima panaudoti kitų medžiagų interkaliacijai.