Magnetoresistance relaxation in thin La-Sr-Mn-O films exposed to high pulsed magnetic fields

Žurauskienė, Nerija; Balevičius, Saulius; Pavilonis, Dainius; Stankevič, Voitech; Keršulis, Skirmantas; Novickij, Jurij

Use this url to cite publication: https://hdl.handle.net/20.500.14911/142681

Magnetoresistance relaxation in thin La-Sr-Mn-O films exposed to high pulsed magnetic fields

Details

Publication Type (CRIS)

Straipsnis konferencijos medžiagoje kitoje duomenų bazėje / Article in conference proceedings in other databases (P1c)

Publication Type (eLABa)

Straipsnis konferencijos darbų leidinyje kitoje DB / Article in conference proceedings in other DB (P1c)

Author(s)

Author	Affiliation
Žurauskienė, Nerija	Valstybinis mokslinių tyrimų institutas Fizinių ir technologijos mokslų centras
Balevičius, Saulius	Valstybinis mokslinių tyrimų institutas Fizinių ir technologijos mokslų centras
Pavilonis, Dainius	Valstybinis mokslinių tyrimų institutas Fizinių ir technologijos mokslų centras
Stankevič, Voitech	Valstybinis mokslinių tyrimų institutas Fizinių ir technologijos mokslų centras
Keršulis, Skirmantas	Valstybinis mokslinių tyrimų institutas Fizinių ir technologijos mokslų centras
Novickij, Jurij	Stiprių magnetinių laukų institutas / Institute of High Magnetic Fields (0555)

Title

Magnetoresistance relaxation in thin La-Sr-Mn-O films exposed to high pulsed magnetic fields

[en]

N. Žurauskienė, S. Balevičius, D. Pavilonis, V. Stankevič, S. Keršulis, J. Novickij

Is part of

4th Euro-Asian pulsed power conference / 19th international conference on high-power particle beams (EAPPC 2012 / BEAMS 2012) : Karlsruhe, Germany, September 30 - October 4, 2012 : [proceedings]

Published In

Year	Volume	Issue	Start Page	End Page
2012	41	10	181	184

Publisher

Karlsruhe : Karlsruhe Institute of Technology

Extent

p. 181-184

URI

URI	Access Rights
https://hdl.handle.net/20.500.14911/142681
Santrauka	Dokumento santrauka/dalis

Cited references

Science / Art Area

Technologijos mokslai / Technological sciences (T)

Field of Science / Art

Elektros ir elektronikos inžinerija / Electrical and electronic engineering (T001)

Keywords (en)

Abstract (en)

The results of investigation of colossal magnetoresistance relaxation in nanostructured La-Sr-Mn-O films after removal of magnetic field pulse are presented. The 400 nm thick films grown by MOCVD technique were studied in the magnetic field range of 2-10 T and temperature range of 100-290 K using a pulsed magnetic field generator based on capacitor bank discharge. A special design of magnetic coil with nonmetallic outer casing made from polyamide material allowed to distinguish relaxation processes occurring in three different time scales: ultrafast (< 1 microseconds), fast (~ 100 microseconds), and slow (~ 1 ms). The dynamics of fast relaxation was analysed using Kolmogorov–Avrami–Fatuzzo model, taking into account reorientation of magnetic domains into equilibrium state. The slow relaxation was analysed by Kohlrausch–Williams–Watts model, considering short-range interaction of magnetic moments in disordered grain boundaries having spin-glass properties.